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简述PE和RIE设备的不同点。

发布时间：2026-02-07 00:04:02

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答案：PE和RIE设备的不同点主要体现在设备结构及刻蚀特性两方面：1. 设备结构：PE设备的上电极与电容耦合器及RF电源相连，基板放置在下电极上，辉光放电区产生在距离基板很近的区域；RIE设备的RF电源与下电极相连，基板同样放在下电极上，辉光放电区产生在距离基板很远的上电极附近。2. 刻蚀特性：PE设备中等离子体离基板近，轰击能量小，物理作用弱；RIE设备因阴极电压下降进一步增强电场，等离子体轰击能量加大，物理作用强。